Simulation and Optimization of Tri-Gates in a 22nm Hybrid Tri-Gate/Planar Process uri icon Konferenz-Paper

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Überblick

Freigegeben

  • Ja

AutorInnen

  • Baldauf, Tim
  • Wei, Andy
  • Illgen, Ralf
  • Flachowsky, Stefan
  • Herrmann, Thomas
  • Feudel, Thomas
  • Höntschel, Jan
  • Horstmann, Manfred
  • Klix, Wilfried
  • Stenzel, Roland

Veröffentlichungszeitpunkt

  • 2011

Open-Access-Kennzeichnung

  • Closed Access

Peer Reviewed

  • Ja

Sprachen

  • deutsch

Im Bibliotheksbestand

  • Ja Im Bibliotheksbestand

Identität

Anderes

Kuratierungs-Zielkategorie (intern)

  • Ja